云南大学突破新技术！比台积电1nm材料更优秀 中国将掌握话语权

作为现代科技发展的核心所在，半导体芯片的研究技术至关重要。小到手机，大到航母，都离不开芯片的支持。所以，关于“中国芯”的研发，中国科技始终都不曾放弃。值得一提的是，经过长久研究，中国在这方面已经取得了不小的进步。

日前，我国云南大学更是突破了最新技术，对外公开新的好消息，引发关注。据悉，这个新的技术要比要台积电1nm材料还要优秀，预示着中国将真正掌握话语权。

众所周知，以往关于芯片的制造材料，都是使用的硅基半导体材料。虽然这种材料可以让中国芯研发从0分实现到80分的跨越。但对于中国而言，80分还是远远不够的。因此，中国对于新材料的需求，真的是很迫切。

如今，经过仔细的研究，终于有了新的进展。据了解，云南大学早在2020年的中旬，就已经在这个研究上取得了重大突破，做到了对石墨烯以及硫化铂材料的完美融合。自此，硫化铂真正开始受到世界的关注。

报道称，硫化铂所具有的优越光、磁性能，说明了它将是最合适的选材之一。举例说明，如果是同样的一款，通过采用硫化铂材料，可以有效实现传统硅基芯片5nm以上的水平。而针对性能和能耗，还有机会可以赶超3nm技术。

原先在芯片技术上，美国一直尝试着要对中国卡脖子。如今看来，美国的计划将要再次泡汤了。虽然中国还没有确保芯片技术的成熟，但如今的一项项成就，都意味着中国不断超前迈进的脚步。这说明在不久的将来，中国肯定会凭实力在这方面掌握绝对的话语权。

比尔盖茨曾经说过，美国中国芯片，并不是一个理智的决定。因为反应过来的中国，很快就会在这个方面进行重点突破。可能根本就用不了几年的时间，中国就会让自己的芯片问世了。到了那个时候，美国不仅没有达到目的，还失去了和中国更多合作的机会。