如今我国在半导体领域当中也不断有好消息传出，虽然我国进入半导体行业的时间是比较晚的，而且技术也比较的薄弱，在半导体领域许多关键性技术还是要有所攻克才行，我国在面临技术壁垒的时候也是越挫越勇。而作为在半导体领域当中有重要地位的ASML也曾说过国中国将会实现重大的技术突破，而且还能够在15年之内完成对芯片技术的攻克，虽然对于ASML的这番话应该要采取客观辩证的态度。
ASML之所以会说出这段话主要还是因为从清华大学工物系在新型加速器光源当中有重大进展，中科院目前也已经传来了新的消息，那就是在最新的操作技术上的也已经完成了突破，这也就意味着中国在接下来的半导体行业当中将会具有更多的话语权，同时国内的半导体行业将会迎来爆发式的增长。
清华大学工物系在新型加速器光源稳态微技术研究中取得了重大的进展，这一好消息的传出也就意味着我国在接下来的光刻机方面也会迎来重大的技术突破，要知道光刻机的生产是离不开光刻胶以及光源的。那么，清华大学在研究出的这个光源上如果一旦完成试用和量产的话，接下来将会应用于国内的半导体行业，对于接下来国内的芯片制造将会起到更大的促进作用。
清华大学此次发现的这种新光源也是EUV光刻机最重要的光源之一，而这个光源相比较于ASML目前所采用的光源来说具有更好的功能，因此这一项重要研究成果对于国内的半导体企业发展来说也是一个好消息，这也就意味着接下来的芯片行业的发展将会突破重重困难。
在清华大学传来好消息之后中科院目前也有着好消息传出，那就是在快速光学邻近效应修正技术操作上也已经实现了技术突破，而且，这项技术具有更高更好的修正效率，也是现在目前国内的关键性技术之一，也引来了国内不少企业的重视。
这项技术的突破对于我国进入光刻机领域来说也实现了重要的转折点。光刻机技术所要掌握的光刻机领域所要掌握的技术是非常多的，而中科院目前也就很好的实现了这项操作技术的突破，那么这也就意味着，国内目前在光刻机技术方面的发展也将会向着布满荆棘的科技之林继续前进。ASML在接下来的发展中也在不断的对华供货，相信这也是为什么ASML会实现对华供货的重要原因。
ASML在全球半导体领域当中是有着绝对话语权的，尤其是现在半导体行业也有着很大的动荡，那么对于光刻机以及芯片等等半导体设备和技术也有着很大的需求，因此关于接下来国内的发展也将会迎来爆发式的增长，对于芯片以及技术方面的需求也会更高一些，中国将会是全球半导体企业的重要市场。
而国内如果一旦完成对光刻机操作技术等这些半导体技术突破的话，那么，我国就是自产自主自研，到时候那些非中国企业接下来的发展也就会十分的堪忧。ASML尽管是完成了对国内半导体行业的供货，但是随着接下来中国的发展，ASML是否还能够维持和稳定对华供货的输出位置其实还是很难能够决定的。
尤其是现在国内的竞争是十分激烈的，对于半导体行业来说其竞争也十分的激烈，国内国产企业和国产技术的崛起，其背后也是离不开很多科学家以及国内优秀企业的努力。因此，ASML也曾预言就是随着国内接下来的发展的那么中国将会有可能在三年之内实现国产光刻机技术的突破，还能够在15年之内就完成芯片技术的自主攻克。
清华大学以及中科院相继在半导体领域当中传来了好消息，我国在半导体领域也不断的突破技术壁垒，AS ML甚至还认为中国将会在三年内实现重大的技术突破，这也能够看出其实目前国内的发展在半导体领域行业当中来说也是取得了重大的进展。
这也就意味着如果我国继续实现半导体领域行业发展的话，那么接下来许多的半导体的政策都会更加的倾斜于中国，而中国在接下来当中将会更加的具有话语权，国内半导体行业的发展的最终还是离不开一些科学家以及优秀的企业，只有更强大的中国力量才能够推动的着中国科学技术的发展。
